Elektronenstrahllithographie

JEOL JBX-9500FS

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JEOL JBX-9500FS

  • Punktstrahlsystem für Direktschreiben und Maskenherstellung
  • Große Schreibfelder (bis zu 1mm x 1mm)
  • Schreibfeld 230 mm x 230 mm
  • Substratgröße bis 300 mm
  • Automatischer Einzelkassettenbetrieb oder automatisches Ladesystem (optional)

Spezifikationen

Elektronen­quelle

ZrO/W (Schottky)-Emitter

Beschleu­nigungs­spannung

100 kV

Min. Strahl­durch­messer

4 nm (100 kV)

Substrat­größe

300 mm

Strahl­form

Spot

Ablenkung

Vector scan

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