Elektronenstrahllithographie

JEOL JBX-8100FS Elektronenstrahllithographie-System

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JEOL JBX-8100FS Elektronenstrahllithographie-System

Bei der Konstruktion der JBX-8100FS haben wir einen vollständig überarbeiteten Ansatz in Bezug auf Design und Leistung gewählt. Aufbauend auf unsere bewährten Lithographiesysteme, konnten wir in die JBX-8100FS Neuerungen implementieren, die bei rein inkrementellen Veränderungen nicht umsetzbar gewesen wären. Während das Exterieur mit der reduzierten Größe auf den ersten Blick am deutlichsten hervorsticht, sind es die Verbesserungen im Inneren des Systems, welche die eigentlichen Veränderungen beinhaltet. Durch das Einsetzen von maßgeschneiderten Bauteilen wurde unseren Ingenieuren die Freiheit gegeben, die Leistungsfähigkeit des Systems auf ein neues Niveau zu heben.

Das Ergebnis ist ein wahrhaft innovatives Lithographiesystem in einem modularen Design, reduzierter Baugröße, geringem Energieverbrauch sowie der welthöchsten Rastergeschwindigkeit für jedes Einsatzgebiet.

Zusammengefasst ist die neue JBX-8100FS das innovativste Lithographiesystem, welches wir je entwickelt haben.

Merkmale

  1. Kleine Aufstellfläche
    Die verkleinerte Aufstellfläche von 4,9 m (W) x 3,7 m (D) x 2,6 m (H) hilft wertvollen Reinraumplatz zu sparen.

  2. Energieeffizient
    Der Energieverbrauch wurde um 30% reduziert.

  3. Hoher Durchsatz
    Durch die Steigerung des Rastergenerators auf 125MHz sowie durch den Einsatz von zwei neuen Belichtungsmodi können sowohl ultrafeine Strukturen als auch mittelgroße Produktionszyklen abgedeckt werden.

  4. Version
    Die JBX-8100FS ist in zwei Versionen verfügbar: G1 (Standardmodell) und G2 (Voll ausgestattetes Modell). Bei Bedarf kann das Standardmodell modular mit weiterem Zubehör aufgerüstet werden.

  5. Neue Funktionen
    Ein optisches Mikroskop ermöglicht das Untersuchen der Probe ohne den lichtempfindlichen Photolack versehentlich zu belichten.

  6. Laser Positionierungsauflösung
    Die neue, ultrapräzise Mess- und Regeltechnik ermöglicht es die Probenbühne in 0,15nm Schritten zu steuern.

  7. System Überwachung
    Das vielseitiges Linux® Bediensystem in Verbindung mit einer neuen grafischen Benutzeroberfläche ermögliche eine einfache Bedienung. Das Datenverarbeitungsprogramm unterstützt Linux® und Windows®.

    Hinweis:
    Windows ist ein eingetragenes Warenzeichen von Microsoft Corporation in den USA und anderen Ländern.
    Linux® ist ein eingetragenes Warenzeichen von Linus Torvalds in den USA und anderen Ländern.

Spezifikationen

Version G1 (Standard­modell) G2 (Voll ausge­stattetes Modell)

Schreib­methode

Spotstrahl, vector scan, step and repeat


Beschleu­nigungs­spannung

100 kV

100 kV / 50 kV

Strahl­strom

5 × 10-12 ~ 2 × 10-7 A


Feld­größe

Maximum 1,000 μm × 1,000 μm

Maximum 2,000 μm × 2,000 μm

Scan­geschwin­digkeit

Bis zu 125 MHz


Bewegungs­raum der Proben­bühne

190 mm × 170 mm


Overlay

≦±9nm


Stitching

≦±9nm


Elektrische Anforderungen (Normal)

3kVA


Substrat­größe

Maximum 200mmΦ wafer
6 inch mask blanks
Small sample of any size


Substrat­transfer

Auto­mati­scher Einzel­kassetten­bertrieb

Auto­matischer 12-facher Kassetten­betrieb

Wichtige weitere nachrüst­bare Optionen

Optische Mikroskop
25 kV Hochspannungs­programm
Daten­aufbereitungs­programm mit zusätzlicher Lizenz

Bitte beachten Sie:

Technische Änderungen und Irrtümer vorbehalten. Alle im Text aufgeführten Markennamen sind eingetragene Warenzeichen der Hersteller.

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